等离子刻蚀机原理优势及应用

　　等离子体蚀刻（又称干法蚀刻）是集成电路制造的关键工艺之一，其目的是在硅片表面完全再现掩膜图案，其范围包括控制CMOS栅极正面的尺寸，蚀刻金属铝背面边缘以及蚀刻Via和Trench。今天，没有等离子体蚀刻技术就无法制造IC芯片。等离子刻蚀机的投资约占芯片厂设备总投资的10-12%，工艺技术水平对最终产品的质量和生产的技术进步有直接影响。随着技术和工艺的不断进步，干法蚀刻逐渐成为主流；国产等离子蚀刻设备不断进步，逐渐取代了进口设备，成为市场的新选择。

　　一、等离子刻蚀机的原理可以概括为以下几个步骤：

　　1、在低压下，反应气体被射频能量激发，导致电离并形成等离子体，等离子体由带电的电子和离子组成，反应腔内的气体除了被电子冲击外，还被转化为离子，并吸收能量而形成大量的活性基团。

　　2、活性基团与蚀刻材料的表面发生化学反应并形成挥发性反应产物

　　3、反应产物从蚀刻材料的表面被移除，并通过真空系统从室中取出。等离子体蚀刻的应用，例如：等离子体去除沉积物、光刻胶去除、表面处理、各向异性和各向同性的失效分析、材料改性、包装清洗、钝化物蚀刻、聚酰亚胺蚀刻、附着力改善、生物医学应用、聚合反应、混合物的清洗、粘接前的清洗等等。

　　二、等离子刻蚀机的优势：

　　1、材料范围广：从微芯片到全尺寸线圈，任何形状和复杂的基材，如带状、片状、管状、模制形状和任何配置的加工件都可以进行蚀刻和粘接。

　　2、干法蚀刻：利用等离子体中的化学活性原子团与被蚀刻材料发生化学反应，整个过程不使用水或化学溶剂，更加环保。

　　3、工艺健康：产生等离子体只需要电和工艺气体，不会产生有害物质，对操作者的身体没有伤害；对设备的操作也很简单，智能控制屏幕，容易启动工作。

　　三、等离子刻蚀机的应用：

　　等离子刻蚀机主要用于微电子制造过程中，主要加工对象是硅，用于***的图形转移。此外，它还被广泛用于平板等离子体蚀刻、薄膜蚀刻和纤维蚀刻。【N2T73KO89NM】